Химическое осаждение никеля: этот метод может создать хороший проводящий слой за счет хорошего контроля. Как правило, он должен реагировать в высокотемпературной ванне. Если фоторезист не обрабатывается должным образом, во время процесса легко заставить фоторезист отслаиваться или образовывать трещины. Кроме того, будущая утилизация химических агентов также является высокоэффективным методом осаждения проводящего слоя. Однако из-за проблем с вакуумным оборудованием для испарения, методами работы и требованиями к вакууму он используется редко. Проводящая основная форма служит катодом, а электроформованный материал служит анодом. Оба электрода погружены в раствор для электроформования. Когда источник питания постоянного тока применяется к обоим электродам, атомы металла на аноде теряют электроны и становятся положительными ионами металла, которые затем текут к катоду, где они получают электроны и становятся атомами металла, которые осаждаются на поверхность основной формы. Со временем электроформованный слой на основной форме катода постепенно утолщается, пока не достигнет желаемой толщины. Затем этот процесс останавливается, основная форма катода удаляется, а демонтаж выполняется для получения электроформованной детали с поверхностью, отражающей контуры исходной формовы. серьезная проблема.