Химическое осаждение никеля: этот метод может создать хороший проводящий слой за счет хорошего контроля. Как правило, он должен реагировать в высокотемпературной ванне. Если фоторезист не обрабатывается должным образом, легко заставить фоторезист отслаиваться или образовывать трещины во время процесса. Кроме того, будущая утилизация химических веществ также является серьезной проблемой.